2026 北科大廠務與潔淨室技術研討會：掌握微污染前沿趨勢

專欄導讀：2026 年 7 月 31 日，由國立臺北科技大學潔淨技術中心、北科大半導體廠務及設備研究中心、中興大學先進半導體潔淨技術與製程設備研發中心、中華潔淨技術協會及台灣冷凍空調學會等單位共同主辦的「2026年廠務與潔淨室技術暨學術研討會」，於北科大先鋒大樓盛大登場。本屆研討會匯聚了半導體大廠、學術研究機構與廠務設備專家，產學研團隊針對微污染控制 (AMC)、低能耗排氣、CO2 綠色應用及數據中心冷卻等前瞻議題進行深度對話。

一、 產學研頂尖專家雲集：2026 潔淨室技術研討會亮點剖析

本屆研討會為高科技廠房設施與潔淨技術領域的年度盛事。議程涵蓋了超臨界流體於濾網再生的實務應用、新穎分析儀器於半導體 AMC 之監測、cavity ring-down 光譜即時監測，以及離子液體尾氣處理與 AI 驅動的永續過濾解決方案。活動現場聚集了數百位產學界專業人士，透過專題報告與技術分場論壇進行交流。研討會呈現出半導體與生技產業對「極限微污染控管」與「ESG 綠色廠務」的迫切需求。現場討論熱烈，為下半年的高科技廠房建置與升級指引了明確方向。

二、 關鍵專題發表：酸類 AMC 控制的選擇性過濾策略

在上午的專題演講中，來自 Artemis control GmbH 的 Dr. Peter Heinrich 針對「酸類 AMC 移除：活性碳系統與離子交換系統之優勢發揮」發表了專題報告。演講重點指出，多數與酸類相關的晶圓缺陷取決於特定製程步驟，極少與「總酸量」數值直接相關。離子交換樹脂 (IX-A) 具備均勻的官能基與惰性骨架，體積容量達到傳統活性碳 (AC-A) 的四倍。IX-A 能精準移除 HF、HCl 等強酸，且不具備吸附孔洞，因此不會產生酯類吸附或 NO_x 氧化還原等副作用。這項研究證實，採用具備高選擇性的離子交換系統，能在 FFU 及光罩倉儲中實現極低的總擁有成本 (TCO) 與超過 60 個月的超長效防護。

三、 持續精進專業量能：CYK 團隊第一線汲取前沿新知

微污染控制不僅需要頂尖的氣體過濾設備，更需要物理防護耗材的精準配合。CYK 喬鎧興業團隊定期參與國內外各類無塵與潔淨技術研討會。同仁藉由吸收最新的學術發表與技術數據，持續優化自身的專業技術知識庫。在本次研討會現場，CYK 團隊與多家設備商、系統整合商及學術機構代表進行了深度的業務與技術交流。團隊透過傾聽廠務端在機台保養與人員進出時遇到的防護痛點，不斷調整產品規格，確保 CYK 提供之解決方案始終緊跟半導體與生技產業的最前線發展。

四、 賦能產學研究與商業量產：CYK 喬鎧興業潔淨防護方案

從大學實驗室的產學合作專案，一路延伸至大批量商業化生產線，極致的環境潔淨度是研發成果能否落地的核心關鍵。CYK 喬鎧興業長期致力於支援各大大專院校產學中心與高科技廠房，提供通過第三方權威認證的潔淨產品。

CYK 高規格潔淨衣具備絕佳的物理阻隔性與極低發塵數據，能承受頻繁的洗滌與滅菌流程，協助研究團隊與產線工程師阻絕人為落塵與靜電干擾。針對光罩倉儲、設備維護與嚴格的無痕擦拭需求，CYK 提供高品質超細纖維潔淨擦拭布，具備零發塵、強吸液性與耐溶劑特性。CYK 憑藉千坪實體倉儲系統，確保產學機構與企業獲得穩定的現貨供應，共同打造堅不可摧的潔淨防線。

目前CYK 喬鎧興業積極尋找合作之各大專院校，願意提供免費的教學耗材，請填寫表單將會有專人跟您聯絡。